Centro de Investigación Metalúrgica

  • 7 de julio de 2017

Cincuenta profesionales comparten conocimientos sobre caracterización estructural de materiales metálicos de la mano de LEICA Microsystems e IK4-AZTERLAN

Este marco de trabajo tuvo lugar los días 28 y 29 de junio en las instalaciones del Centro de Investigación Metalúrgica IK4-AZTERLAN, contando con la participación de técnicos de empresas, centros de investigación y universidades.

Bajo el título de “De Macro a Micro y de Micro a Nano” el workshop técnico impartido por LEICA Microsystems e IK4-AZTERLAN, ofreció a los asistentes la oportunidad de conocer de primera mano las técnicas más avanzadas de microscopía, relacionadas con la caracterización estructural de los materiales metálicos.

Tras una introducción teórica por parte de los expertos de LEICA sobre conceptos básicos de microscopía óptica, la jornada se adentró en conceptos más prácticos relacionados con la formación de imagen en microscopía digital o ejemplos concretos de microscopía analítica, la herramienta de la microscopía electrónica que se refiere al microanálisis.

Por su parte, el Centro de Investigación Metalúrgica IK4-AZTERLAN, de la mano de David Peña (especialista en fractografía), compartió con la audiencia la experiencia y las capacidades analíticas en el uso de técnicas microscópicas, ofreciendo claves prácticas para la selección del equipamiento óptico de análisis en función de las necesidades analíticas existentes en cada caso.

Las jornadas de trabajo se cerraron con un bloque práctico que permitió trabajar con microscopios estereoscópicos, digitales y metalográficos, así como con distintos softwares de adquisición de imagen y medición 2D y 3D.

Los asistentes pudieron analizar con estas herramientas sus propias muestras,  contando en el análisis con el apoyo técnico de los expertos de LEICA Microsystems e IK4-AZTERLAN.

Vídeo recopilatorio de la jornada de microscopía


Algunos momentos de la jornada de microscopía

Ponentes de la jornada Fotos microscopia

De izquierda a derecha Alberto Torcal (Leica Microsystems), David Peña (IK4-AZTERLAN) y Dionís Díez (Leica Microsystems) y un momento de la exposición.